מטרת טיטניום GR5חומר מתייחס למקור הקריז שיוצר סרטים פונקציונליים שונים על המצע על ידי קיצוץ מגנטרון, ציפוי יונים רב-קשתות או סוגים אחרים של ציוד ציפוי בתנאי תהליך מתאימים. מטרות קפיצה נמצאות בשימוש נרחב בקישוט, תבניות, זכוכית, מכשירים אלקטרוניים, מוליכים למחצה, הקלטה מגנטית, תצוגת מטוס, תאים סולאריים ותחומים רבים אחרים.

טוהר הוא אחד ממדדי הביצועים העיקריים של חומר המטרה מכיוון שלטוהר חומר המטרה יש השפעה רבה על ביצועי הדק.

לחומרי מטרה שונים יש דרישות שונות לתכולת טומאה שונה בתנאים שונים.

בדרך כלל, חומר המטרה הוא פוליקריסטלי עם גדלי גרגירים הנעים בין מיקרון למילימטר. עבור אותה מטרה, קצב הקפיצה של המטרה עם הגרגר העדין מהיר יותר מזה של המטרה עם הגרגר הגס. הסרטים הדקים שהופקדו על ידי קפיצת מטרה עם הבדלי גודל גרגרים קטנים יותר (חלוקה אחידה) הם בעלי חלוקת עובי אחידה יותר.

ספקי מטרה לקריסת טיטניום

High Purity Titanium Sputtering Target מטרת ריזור טיטניום בטוהר גבוה