מטרות לקריסת טיטניום בטוהר גבוה

מטרות מקרטעת טיטניום בטוהר גבוההם מקורות התזת היוצרים סרטים דקים פונקציונליים שונים על מצעים על ידי קיצוץ מגנטרון, ציפוי יונים רב-קשת או סוגים אחרים של מערכות ציפוי בתנאי תהליך מתאימים. במילים פשוטות, חומר המטרה הוא חומר המטרה המופגז על ידי חלקיקים טעונים במהירות גבוהה.

הוא משמש בנשק לייזר באנרגיה גבוהה. כאשר לייזרים עם צפיפות כוח שונה, צורות גל שונות של פלט ואורכי גל שונים מקיימים אינטראקציה עם מטרות שונות, הם ייצרו הרג ונזקים שונים. השפעה. לדוגמא: ציפוי מגנוטרון אידוי הוא ציפוי אידוי חימום, סרט אלומיניום וכן הלאה. על ידי החלפת חומרי מטרה שונים (כגון אלומיניום, נחושת, נירוסטה, טיטניום, מטרות ניקל וכו'), ניתן להשיג מערכות סרטים שונות (כגון סרטי סגסוגת סופר קשים, עמידים בפני שחיקה, אנטי קורוזיה וכו').

פרמטרים

תכונות

1. משקל קל

2. חוזק ספציפי גבוה

3. עמידות בפני קורוזיה

4. עמידות בטמפרטורה גבוהה ונמוכה

יישומים

★בניית ספינות ★ציפוי אלקטרוליטי ★תעופה וחלל ★תעשייה כימית ★ציוד רפואי

פרטים

עשוי מחומרי גלם איכותיים, עמיד בפני שחיקה ועמיד בפני קורוזיה, שימוש לטווח ארוך

ללא סדקים מתקלפים על פני השטח, ללא כתמי שמן, משטח צד חלק ונקי

מפרטים מלאים, חיתוך שרירותי, תמיכה בהתאמה אישית לא סטנדרטית

לטוהר חומר המטרה יש השפעה רבה על ביצועי הסרט. טוהר הוא אחד ממדדי ביצועי היעד.

טוֹהַר

טוהר היעד הוא אחד ממדדי הביצועים העיקריים של היעד מכיוון שטוהר היעד משפיע מאוד על ביצועי הסרט. עם זאת, ביישומים בפועל, הדרישות לטוהר חומר המטרה אינן זהות. לדוגמה, עם ההתפתחות המהירה של תעשיית המיקרו-אלקטרוניקה גודל פרוסת הסיליקון הורחב מ-6 ", 8" ל-12", רוחב החיווט הצטמצם מ-0.5 אום ל-0. 25 אום, 0.18 אום ו-0.13 אום. בעבר, טוהר היעד היה 99.995 אחוזים.

תוכן טומאה

המקור העיקרי של הסרט המופקד הוא החמצן והלחות של מוצקי המטרה והנקבוביות. למטרות עבור יישומים שונים יש דרישות שונות עבור רמות טומאה שונות. לדוגמה, למטרות של אלומיניום טהור וסגסוגות אלומיניום המשמשות בתעשיית המוליכים למחצה יש דרישות מיוחדות לתכולת מתכת אלקלית ותכולת יסודות רדיואקטיביים.

צְפִיפוּת

על מנת לצמצם את הנקבוביות של מוצקי המטרה ולשפר את הביצועים של סרטים מנותקים, המטרות בדרך כלל צריכות להיות צפופות יותר. צפיפות המטרה משפיעה לא רק על קצב הקפיצה אלא גם על המאפיינים החשמליים והאופטיים של הסרט. ככל שצפיפות המטרה גבוהה יותר, כך ביצועי הסרט טובים יותר. בנוסף, כאשר צפיפות ועוצמת המטרה מועלות, המטרה יכולה לעמוד בלחץ התרמי במהלך הקפיצה. צפיפות היא אחד ממדדי ביצועי היעד.

גודל גרגר ופיזור גודל

בדרך כלל המטרה היא רב גבישית, וגודל החלקיקים עשוי להיות בסדר גודל של מיקרומטר עד מילימטר. במקרה של אותה מטרה, קצב הקפיצה של המטרה העדינה היא מהירה יותר מקצב הקפיצה של המטרה הגרגרת הגסה, בעוד שלתצהיר הקפיצה של מטרת החלקיקים הקטן יותר (חלוקה אחידה) יש פיזור עובי אחיד (אחיד) . הפצה.

אם אתה מעוניין במטרות מקרטעת טיטניום עם טוהר גבוה, בבקשה תרגיש חופשי לפנות אלינו:

אימייל:zhangjixia@bjygti.com

דף הבית:http://www.toptitech.com

תגיות פופולריות: מטרות קפיצת טיטניום בטוהר גבוה, סין, ספקים, יצרנים, מותאמים אישית, שימוש, מחירון, למכירה, במלאי, מדגם חינם, חומר נקבובי