מסנן 1um אבקת טיטניום סינטר לטיפול בגז פסולת חומצי

מפרטי מוצרים

תכונות מוצרים

עמידות חומצה מעולה
מסנן אבקת טיטניום 1um מפגין עמידות בפני קורוזיה ללא תחרות בסביבות חומציות, הודות להרכב הטיטניום הטהור שלו ותהליך הסינטר -ללא מקשר. מבנה המיקרו ההומוגני שלו עומד בחשיפה ממושכת לאדי חומצה גופריתית, הידרוכלורית וחומצה חנקתית ללא פירוק מבני, מה שעולה על חלופות מתכת מבוססות פולימר או מצופות בזרמי גזי פסולת אגרסיביים.

 

ביצועי סינון מדויק‌
עם דיוק סינון מוחלט של 1μm המושג באמצעות חלוקת גודל חלקיקים מבוקרת ופרמטרי סינטר אופטימליים, מסנן זה מבטיח יעילות עקבית של הסרת חלקיקים. גיאומטריית הנקבוביות האחידה ממזערת את ירידת הלחץ תוך שמירה על קיבולת-החזקת אבק גבוהה, קריטית ליישומים תעשייתיים הדורשים ביצועי סינון יציבים לאורך מחזורי פעולה ממושכים.

יציבות תרמית ומכנית

מטריצת הטיטניום המונוליטית שומרת על שלמות ממדית תחת מחזוריות תרמית של עד 280 מעלות, ומבטלת סיכונים של דלמינציה או סדקים הנפוצים במסננים מרוכבים. חלוקת החוזק האיזוטרופי שלו מתאימה ללחצים של רטט במערכות פליטה, כאשר ממשק ההברגה M30 מספק איטום מכני חזק בתנאי לחץ משתנים.

 

כלכלה תפעולית בת קיימא‌

היעדר רכיבים מתכלים וחומר טיטניום שאינו-מתכלה מפחית את עלויות התחזוקה של מחזור החיים. שיטות ניקוי רגנרטיביות כגון אולטרסאונד או שטיפה לאחור משחזרות את יעילות הסינון מבלי לפגוע במבנה הסינטר, מה שמאפשר שימוש חוזר ביישומי עיבוד אצווה.

יציבות תרמית ומכנית
מטריצת הטיטניום המונוליטית שומרת על שלמות ממדית תחת מחזוריות תרמית של עד 280 מעלות, ומבטלת סיכונים של דלמינציה או סדקים הנפוצים במסננים מרוכבים. חלוקת החוזק האיזוטרופי שלו מתאימה ללחצים של רטט במערכות פליטה, כאשר ממשק ההברגה M30 מספק איטום מכני חזק בתנאי לחץ משתנים.

 

כלכלה תפעולית בת קיימא‌
היעדר רכיבים מתכלים וחומר טיטניום שאינו-מתכלה מפחית את עלויות התחזוקה של מחזור החיים. שיטות ניקוי רגנרטיביות כגון אולטרסאונד או שטיפה לאחור משחזרות את יעילות הסינון מבלי לפגוע במבנה הסינטר, מה שמאפשר שימוש חוזר ביישומי עיבוד אצווה.

 

 

 

יישום בטיפול בגז פסולת חומצי

מערכות פליטה של ​​מוליכים למחצה ליטוגרפיה‌
מסנן אבקת טיטניום 1um נפרס במורד הזרם של כלי ליטוגרפיה טבילה כדי ללכוד אדי חומצה הידרופלואורית (HF) וחומצה חנקתית (HNO₃) הנוצרים במהלך הפשטת פוטו-רזיסט. מותקן בערימות פליטה אנכיות עם חיבורי אוגן M30, הוא מיירט טיפות חומצה תת-מיקרוניות וסיליקון המכילים חלקיקים- לפני שהגז חודר לסורגים מרכזיים.

 

בקרת ערפל חומצה אלקטרו
בקווי ציפוי כרום וניקל קשיחים, המסנן משתלב במנדפי אוורור מסוג-חריצים מעל מיכלי ציפוי כדי לנטרל ערפילי חומצה גופרתית וחומצה הידרוכלורית. אורך המחסנית של 500 מ"מ מספק זמן שהייה מספיק להתלכדות אירוסולים חומציים לטיפות גדולות יותר, אשר מתנקזות לאחר מכן לסורגים רטובים. מבנה הטיטניום שלו עמיד בפני פיתולים מסביבות עשירות-כלורידיות, ביצועים טובים יותר ממסירי ערפל פולימרי ביישומי-זרם- בצפיפות גבוהה.
 

ייצור טיטניום דו חמצני כבוי-טיפול בגז‌
במהלך תהליך הכלוריד לייצור TiO₂, המסנן משמש כמסנן קדם- ברכבות פליטה-בטמפרטורה גבוהה (200-300 מעלות), מסיר חלקיקי TiCl₄ וחלקיקי כלור שלא הגיב לפני ממירים קטליטיים. מותקן במערכים מקבילים בתוך בתי FRP, המטריצה ​​המרוסנת שלו עומדת בטבע השוחק של אבק טיטניום אוקסיכלוריד תוך שמירה על<50Pa pressure drop across continuous 24/7 operation cycles.

שאיבת אדי קו כבישה‌
בפעולות כבישה של פלדה וסגסוגת טיטניום, יחידות סינון מרובות מוגדרות בסדרה בתוך תעלות PP עמידות-לחומצה כדי ללכוד אדי חומצה מעורבת-חנקנית. הקוטר של 80 מ"מ מאפשר אינטגרציה קומפקטית בקרבת אזורי תהליך, בעוד שמבנה הנקבוביות המחוברות מתנגד לסנוור מאירוסולים של מלח ברזל הנמצא בדרך כלל בזרמי פליטה כבישה.

חיבורי כלי מוליכים למחצה בתהליך רטוב‌
המסנן מתממש ישירות עם יציאות פליטה רטובות של ספסל במארזים מוליכים למחצה, המסנן לוכד את BOE (etched oxided etch) ו-SC-1/SC-2 אדי תמיסת ניקוי. המבנה כולו ממתכת מבטל סיכוני יציאת גז בחיבורי כלים תואמי ואקום, כאשר דירוג 1μm מונע זרימה לאחור של חלקיקי אמוניום פלואוריד לאזורי תהליך רגישים.

 

Chlor-Alkali Cell Vent Gas Polishing‌
המסנן ממוקם במורד הזרם של פתחי אוורור של תאי כספית או ממברנה במפעלי כלור-אלקלי, ומספק הסרה סופית של חלקיקים עבור זרמי גז מימן המכילים תרסיסים של כלור ונתרן הידרוקסיד. התאימות של חומר הטיטניום עם ערפל מי מלח רווי מבטיחה פעולה-לטווח ארוך בסביבת הלחות-הגבוהה והמליחות הגבוהה-זו.

• חומצה גופרתית (H₂SO₄) ונגזרות‌

מסנני טיטניום מחושזים מפגינים עמידות יוצאת דופן בפני אדי חומצה גופרתית ואירוסולים, במיוחד בתהליך TiO₂ כלוריד מחוץ לגז (המכיל SO₂/SO₃) ועופרת- מערכות פליטה לייצור סוללות חומצה. עמידותם בפני קורוזיה לחומצה גופרתית מרוכזת עולה על חלופות המבוססות על-פולימר, ללא סיכון לגרפיטיזציה או התפרקות בחשיפה ממושכת.

• חומצה הידרוכלורית (HCl) וגז מימן כלורי

מסנני טיטניום, אידיאליים לחריטת פליטות מוליכים למחצה וגז זנב ייצור PVC, עמידים בתערובות גז כלור רטוב ותערובות HCl ללא בעיות התנפחות הנפוצות במסננים מלוכדים בשרף-. המבנה הסינטר -ללא מקשר לוכד ביעילות אירוסולים של חומצה הידרוכלורית תת-מיקרונית במערכות אוורור של ציפוי אלקטרוניקה.

• חומצה חנקתית (HNO₃) ותחמוצות חנקן

בתגובות ניטרציה לייצור TNT וקווי כבישה מתכת (פסיבציה מנירוסטה), מסנני טיטניום סובלים חומצה חנקתית מבעבעת. המטריצה ​​הסנטרית מסננת חלקיקי מלח מתכת הנישאים על ידי אדי חומצה חנקתית, ומונעת הרעלת זרז במורד הזרם במערכות SCR.

• חומצה הידרופלואורית (HF) וגזי פלואוריד‌

כאחד ממסננים מתכתיים בודדים התואמים ל-HF, אלמנטים מחוטאים בטיטניום הם קריטיים בתהליכי תחריט סיליקון פוטו-וולטאיים והקפאת זכוכית (כאשר הם משולבים עם אטמי PTFE). מבנה הנקבוביות של 1מיקרומטר מיירט גבישי חומצה hexafluorosilicic (H₂SiF₆), ומונע חסימות קו.

• זרמי גז מעורב חומצה

עבור פליטת תעשיית המתכות (למשל, H₂SO₄-HNO₃-HF מעורבבים) וגזים המכילים גופרית FCC-נפט (H₂S-SO₂), מסנני טיטניום מציגים עמידות בפני קורוזיה סינרגטית. מקדם ההתפשטות התרמית שלהם תואם לתעלות תעשייתיות, מה שמאפשר התקנה ישירה בנקודות פריקה-בטמפרטורה גבוהה (פחות או שווה ל-280 מעלות).

צור איתנו קשר